1 適用范圍

本標準規定了電子工業的水污染物排放控制要求、監測要求和監督管理要求。

本標準適用于現有的電子工業企業、生產設施或研制線的水污染物排放管理，以及電子工業建設項目的環境影響評價、環境保護設施設計、竣工環境保護驗收、排污許可證核發及其投產后的水污染物排放管理。

電子工業污水集中處理設施的水污染物排放管理適用于本標準。

本標準規定的水污染物排放控制要求適用于電子工業企業、電子工業污水集中處理設施直接或間接向其法定邊界外排放水污染物的行為。

2 規范性引用文件

本標準內容引用了下列文件或其中的條款。凡是不注年份的引用文件，其新版本適用于本標準。

GB 6920 水質 pH值的測定 玻璃電*法

GB 7466 水質 總鉻的測定 高錳酸鉀氧化-二苯碳酰二肼分光光度法

GB 7467 水質 六價鉻的測定 二苯碳酰二肼分光光度法

GB 7470 水質 鉛的測定 雙硫腙分光光度法

GB 7471 水質 鎘的測定 雙硫腙分光光度法

GB 7475 水質 銅、鋅、鉛、鎘的測定 原子吸收分光光度法

GB 7484 水質 氟化物的測定 離子選擇電*法

GB 7485 水質 總砷的測定 二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法

GB 7494 水質 陰離子表面活性劑的測定 亞甲藍分光光度法

GB 11893 水質 總磷的測定 鉬酸銨分光光度法

GB 11900 水質 痕量砷的測定 硼氫化鉀-硝酸銀分光光度法

GB 11901 水質 懸浮物的測定 重量法

GB 11907 水質 銀的測定 火焰原子吸收分光光度法

GB 11910 水質 鎳的測定 丁二酮肟分光光度法

GB 11912 水質 鎳的測定 火焰原子吸收分光光度法

GB 15562.1 環境保護圖形標志-排放口（源）

GB/T 16489 水質 硫化物的測定 亞甲基藍分光光度法

HJ/T 60 水質 硫化物的測定 碘量法

HJ 91.1 污水監測技術規范

HJ/T 195 水質 氨氮的測定 氣相分子吸收光譜法

HJ/T 199 水質 總氮的測定 氣相分子吸收光譜法

HJ/T 200 水質 硫化物的測定 氣相分子吸收光譜法

HJ/T 373 固定污染源監測質量保證與質量控制技術規范（試行）

HJ/T 399 水質 化學需氧量的測定 快速消解分光光度法

HJ 484 水質 氰化物的測定 容量法和分光光度法

HJ 485 水質 銅的測定 二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法

HJ 486 水質 銅的測定 2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法

HJ 487 水質 氟化物的測定 茜素磺酸鋯目視比色法

HJ 488 水質 氟化物的測定 氟試劑分光光度法

HJ 489 水質 銀的測定 3，5-Br2-PADAP分光光度法

HJ 490 水質 銀的測定 鎘試劑2B分光光度法

HJ 493 水質 采樣樣品的保存和管理技術規定

HJ 494 水質 采樣技術指導

HJ 495 水質 采樣方案設計技術指導

HJ 501 水質 總有機碳的測定 燃燒氧化-非分散紅外吸收法

HJ 535 水質 氨氮的測定 納氏試劑分光光度法

HJ 536 水質 氨氮的測定 水楊酸分光光度法

HJ 537 水質 氨氮的測定 蒸餾-中和滴定法

HJ 636 水質 總氮的測定 堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法

HJ 637 水質 石油類和動植物油的測定 紅外分光光度法

HJ 659 水質 氰化物等的測定 真空檢測管-電子比色法

HJ 665 水質 氨氮的測定 連續流動-水楊酸分光光度法

HJ 666 水質 氨氮的測定 流動注射-水楊酸分光光度法

HJ 667 水質 總氮的測定 連續流動-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ 668 水質 總氮的測定 流動注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ 670 水質 磷酸鹽和總磷的測定 連續流動-鉬酸銨分光光度法

HJ 671 水質 總磷的測定 流動注射-鉬酸銨分光光度法

HJ 694 水質 汞、砷、硒、鉍和銻的測定 原子熒光法

HJ 700 水質 65種元素的測定 電感耦合等離子體質譜法

HJ 776 水質 32種元素的測定 電感耦合等離子體發射光譜法

HJ 823 水質 氰化物的測定 流動注射-分光光度法

HJ 824 水質 硫化物的測定 流動注射-亞甲基藍分光光度法

HJ 826 水質 陰離子表面活性劑的測定 流動注射-亞甲基藍分光光度法

HJ 828 水質 化學需氧量的測定 重鉻酸鹽法

HJ 908 水質 六價鉻的測定 流動注射-二苯碳酰二肼光度法

HJ 1069 水質 急性毒性的測定 斑馬魚卵法

《污染源自動監控管理辦法》（國家環境保護總局令 第28號）

《環境監測管理辦法》（國家環境保護總局令 第39號）

《企業事業單位環境信息公開辦法》（環境保護部令 第31號）

《關于印發排放口標志牌技術規格的通知》（環辦〔2003〕95號）

3 術語和定義

下列術語和定義適用于本標準。

3.1 電子工業 electronic industry

本標準中電子工業指電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導體器件、顯示器件及光電子器件、電子終端產品等六類電子產品制造業。

3.2 電子專用材料 special electronic material

具有特定要求且僅用于電子產品的材料，不包括生產電子專用材料的原材料的生產制造。根據其作用與用途，可分為電子功能材料、互聯與封裝材料、工藝與輔助材料。具體產品范圍見附錄 A。

3.3 電子元件 electronic component

電子電路中具有控制、變換和傳輸電壓或電流等獨立功能的單元。包括電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等。

3.4 印制電路板 printed circuit board（PCB）

在絕緣基材上，按預定設計形成印制元件、印制線路或兩者結合的導電圖形的印制電路或印制線路成品板。包括剛性板與撓性板，又可分為單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及剛撓結合印制電路板和高密度互連（high density interconnector，HDI）印制電路板等。

3.5 半導體器件 semiconductor device

利用半導體材料的特殊電特性制造的具有特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產品。

3.6 顯示器件 display device

基于電子手段呈現信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件、低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件、有機發光二*管顯示器件、真空熒光顯示器件、場發射顯示器件、等離子顯示器件、曲 面顯示器件以及柔性顯示器件等。

3.7 光電子器件 photoelectronic device

利用半導體光-電子（或電-光子）轉換效應制成的各種功能器件。包括發光二*管；半導體光電器件中的光電轉換器、光電探測器等；激光器件中的氣體激光器件、半導體激光器件、固體激光器件、靜電感應器件等；光通信電路及其他器件；半導體照明器件等。

3.8 電子終端產品electronic terminal product

以印制電路板組裝工藝技術為基礎裝配的具有獨立應用功能的電子產品或組件。包括通信設備、雷達設備、廣播電視設備、電子計算機、視聽設備等。

3.9 現有企業 existing facility

本標準實施之日前已建成投產或環境影響評價文件已通過審批的電子工業企業、生產設施或研制線，以及電子工業污水集中處理設施。

3.10 新建企業 new facility

本標準實施之日起環境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建電子工業或電子工業污水集中處理設施建設項目。

3.11 直接排放 direct discharge

排污單位直接向環境水體排放水污染物的行為。

3.12 間接排放 indirect discharge

排污單位向污水集中處理設施排放水污染物的行為。

3.13 污水集中處理設施 concentrated wastewater treatment facilities

為兩家及兩家以上排污單位提供污水處理服務的污水處理設施，包括各種規模和類型的城鎮污水集中處理設施、工業集聚區（經濟技術開發區、高新技術產業開發區、出口加工區等各類工業園區）污水 集中處理設施，以及其他由兩家及兩家以上排污單位共用的污水處理設施等。

3.14 電子工業污水集中處理設施 concentrated wastewater treatment facilities for electronic industry

專門為兩家及兩家以上電子工業排污單位提供污水處理服務的污水集中處理設施。

3.15 排水量 effluent volume

企業或生產設施向企業法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產有直接或間接關系的各種外排廢水（含廠區生活污水、冷卻污水、廠區鍋爐排水等）。

3.16 單位產品基準排水量 benchmark effluent volume per unit product

用于核定水污染物排放濃度而規定的生產單位產品的排水量上限值。

3.17 稀釋倍數 dilution level

原水樣占稀釋后水樣總體積分數的倒數，一般用 D 來表示。例如，水樣未稀釋，則稀釋倍數 D=1； 取 250ml 水樣稀釋至 1000ml（即體積分數為 25%），則稀釋倍數 D=4。

3.18 低無效應稀釋倍數 lowest ineffective dilution

測試中不產生測試效應的低稀釋倍數，本標準指不少于90%的斑馬魚卵存活時水樣的低稀釋倍數，用LID表示。

4 水污染物排放控制要求

4.1 新建企業自 2021 年 7 月 1 日起，現有企業自 2024 年 1 月 1 日起，執行表 1 規定的水污染物排放限值及其他污染控制要求。