1.?設備型號
TF20?場發射透射電鏡，配備能譜儀
2.原理
透射電子顯微鏡（Transmission electron microscope，縮寫TEM），簡稱透射電鏡，是把經加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關，因此可以形成明暗不同的影像，影像將在放大、聚焦后在成像器件（如熒光屏、膠片、以及感光耦合組件）上顯示出來。
3.?儀器參數?
加速電壓 | 200KV |
高分辨*靴(S-TWIN) | |
點分辨率 | 0.24nm |
線分辨率 | 0.14nm |
STEM(HAADF)分辨率 | 0.19nm |
電子束能量色散 | <0.7eV |
*大束流 | >100nA |
1nm束斑*大束流 | >0.5nA |
樣品*大傾斜角 | ±40° |
EELS(Gatan Enfina)能量分辨率 | 0.7eV |
EDAX能譜儀 (EDS) | 5B~92U |
能量分辨率 | ~130eV（Mn KL線） |
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4.?設備功能及應用范圍
主要用于無機材料微結構與微區組成的分析和研究，儀器的功能包括：
（1）電子衍射：選區衍射、微束衍射、會聚束衍射；
（2）成像：衍襯像（明、暗場像）、高分辨像 (HREM)、掃描透射像（明場像、環狀暗場像、Z-襯度像）；
（3）微區成分：EELS和EDS能譜的點、線和面分析；
應用范圍：
（1）材料范圍：除磁性材料之外的任何無機材料，包括粉體、薄膜和塊材；不適用于有機和生物材料。
（2）表征范圍：微觀形貌、顆粒尺寸、微區組成、元素分布、元素價態和化學鍵、晶體結構、相組成、結構缺陷、晶界結構和組成等。
5.?送樣需知
5.1粉末樣品基本要求
（1）單顆粉末尺寸*好小于1μm；
（2）無磁性；
（3）以無機成分為主，否則會造成電鏡嚴重的污染，高壓跳掉，甚至擊壞高壓槍；
5.2塊狀樣品基本要求
（1）需要電解減薄或離子減薄，獲得幾十納米的薄區才能觀察；
（2）如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等機械方法制成粉末來觀察；
（3）無磁性；
6.?案例分析
（1）FIB+HRTEM+EDS 半導體薄膜領域
（2）FIB+TEM+EDS?半導體LED領域
（3）磨拋+離子減薄+HRTEM 量子阱領域
（4）FIB+HRTEM+EELS ?納米線截面觀察及能譜分析
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