紫外光刻機
作者：百檢網 時間：2021-11-11 來源：互聯(lián)網
詳細信息
正膠：光刻膠敏感波長365nm；負膠： 光刻膠敏感波長400nm；可以進行背面對準光刻工藝；*小線寬：0.8um；套準精度±0.5um。
可以開展標準的光刻工藝。主要應用于半導體器件、材料、高分子、化學、生物、石墨烯、復雜氧化物等領域。
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4、免費初檢，初檢不收取檢測費用；
5、自助下單 快遞免費上門取樣；
6、周期短，費用低，服務周到；
7、擁有CMA、CNAS、CAL等權威資質；
8、檢測報告權威有效、中國通用；
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