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磁控濺射鍍膜系統

作者:百檢網 時間:2021-11-11 來源:互聯網

  • 詳細信息

    主要技術指標:

    主要用于濺射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金屬薄膜,AlN、SiO2等介質薄膜 *限真空:7E-8 Torr( 30分鐘從 atm 抽到 5E-6 Torr ) 薄膜均勻性:±5% ( 4英寸 ) 靶源:2個4英寸,4個2英寸。樣品兼容4英寸及以下尺寸。 電源:具備RF(600W), DC 和 Pulse DC(1KW) 樣品溫度:0-500oC 工藝氣體:Ar, O2, N2

    主要功能:

    電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞,使其電離產生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰*靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產生的二次電子借助于靶表面上形成的正交電磁場,被束縛在靶表面特定區域,增強電離效率,增加離子密度和能量,從而實現高速率濺射。是制備低維度,小尺寸納米材料器件的必備實驗手段,廣泛應用于集成電路,光子晶體,低維半導體等領域。

  • 服務信息

    服務內容:

    濺射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金屬薄膜,AlN、SiO2等介質薄膜

    收費標準:

    1200

    用戶須知:

    每小時800元 60元/10nm貴金屬

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    客戶案例展示

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