測(cè)試項(xiàng)目：覆層厚度測(cè)試
測(cè)試目的：對(duì)具有覆蓋層的材料使用相對(duì)應(yīng)的方法對(duì)其覆蓋層的厚度進(jìn)行測(cè)量。
項(xiàng)目介紹：覆蓋層是材料覆蓋在另一材料表面所得到的固態(tài)連續(xù)膜，是為了防護(hù)、絕緣、裝飾等目的，涂布于金屬，織物，塑料等基體上的材料薄層。在機(jī)器產(chǎn)品的涂裝質(zhì)量中，覆蓋層的厚度非常重要。覆蓋層的主要目的是防護(hù)，沒(méi)有厚度就沒(méi)有防護(hù)效果。覆蓋層對(duì)材料表面能起到防護(hù)作用，是通過(guò)覆蓋層的隔離作用—把材料表面和外界腐蝕介質(zhì)隔離—而達(dá)到的。好的防護(hù)性是建立在合適的厚度基礎(chǔ)之上的。
測(cè)試要求：
| 測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)
| 標(biāo)準(zhǔn)名稱
| 樣品要求
| 測(cè)試內(nèi)容
| 適用范圍
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| ASTM E376-11
| 用磁場(chǎng)或渦流（電磁）試驗(yàn)方法測(cè)量涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
| 使用校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)后再進(jìn)行測(cè)量
| 試樣的涂層厚度
| 含涂層的金屬基底
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| ASTM B659-90(R2008)
| 金屬和無(wú)機(jī)涂層厚度測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)指南
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| 試樣的涂層厚度
| 金屬或無(wú)機(jī)涂層
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| ASTM B499-09(R2014)
| 用磁性法測(cè)量涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法：磁性金屬上的非磁性涂層
| 使用校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)后再進(jìn)行測(cè)量
| 試樣的涂層厚度測(cè)量值
| 磁性金屬上的非磁性鍍層
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| ISO 2178: 2016
| 磁性基底上的非磁性涂層 涂層厚度的測(cè)量 磁性法
| 使用校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)后再進(jìn)行測(cè)量
| 試樣的涂層厚度、單獨(dú)測(cè)定的結(jié)果、算術(shù)平均值
| 可磁化金屬上的非磁化涂層
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| GB/T 4956-2003
| 磁性基體上非磁性覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 磁性法
| 使用校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)后再進(jìn)行測(cè)量
| 試樣的覆蓋層厚度
| 具有非磁性覆蓋層的磁性基體金屬
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| GB/T 4957-2003
| 非磁性基體金屬上非導(dǎo)電覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 渦流法
| 使用校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)后再進(jìn)行測(cè)量
| 試樣的覆蓋層厚度
| 具有非磁性覆蓋層的非磁性基體金屬，一部分陽(yáng)*氧化膜
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| GB/T
| 金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 X射線光譜方法
| 根據(jù)所使用的儀器
| 試樣的測(cè)量位置、覆蓋層厚度、結(jié)果的標(biāo)準(zhǔn)偏差
| 具有覆蓋層的金屬
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| ISO 3497: 2000
| 金屬鍍層 鍍層厚度的測(cè)量 X射線光譜測(cè)定法
| 根據(jù)所使用的儀器
| 測(cè)量區(qū)域、試樣的鍍層厚度
| *多三層的金屬鍍層
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| ASTM B568-98 (R2014)
| 用X射線光譜法測(cè)量涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
| 根據(jù)所使用的儀器
| 試樣的涂層厚度
| 金屬和一些非金屬涂層
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| ASTM A754/A754M-11 (R2016)
| 用X射線熒光法測(cè)定鋼上金屬涂層重量（質(zhì)量）的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
| 根據(jù)所使用的儀器
| 試樣的測(cè)量區(qū)域、涂層厚度
| 鋼板上的金屬涂層
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| JIS H8501-1999
| 金屬覆層厚度試驗(yàn)方法
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400-101-7153
15201733840
