測試項目:奧氏體不銹鋼硫酸溶液晶間腐蝕測試
測試目的:評估奧氏體不銹鋼在硫酸溶液中的耐晶間腐蝕性能。
項目介紹:奧氏體不銹鋼在腐蝕介質作用下,在晶粒之間產生的一種腐蝕現象稱為晶間腐蝕。主要是由于晶界處缺陷多,原子排列混亂容易出現碳化物等晶界析出物,導致晶界和晶粒處成分有差異,在一定的介質中會形成原電池,晶界處是陽*而晶粒是陰*,這樣在晶界處合金元素性溶解,會產生電化學腐蝕現象。當晶界的鉻的質量分數低到小于12%時,就形成所謂的“貧鉻區”,在腐蝕介質作用下,貧鉻區就會失去耐腐蝕能力,而產生晶間腐蝕。
測試要求:
測試標準
| 標準名稱
| 樣品要求
| 測試內容
| 適用范圍
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GB/T 4334.6-2015
| 不銹鋼5%硫酸腐蝕試驗方法
| 試樣的表面積為10~30cm2,從試驗材料上切取的試樣,與軋制或鍛造方向相垂直的面積應不大于試樣表面積的1/2。加工后試樣的表面粗糙度不大于0.8μm。每次試驗的平行試樣不少于3個
| 試樣的質量損失
| 含鉬奧氏體不銹鋼
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