標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 16527-1996
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)：硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規(guī)范
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)：Specification for photoresist/E-beam resist for hard surface photoplates
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行,發(fā)布于1996-09-09; 實(shí)施于1997-05-01; 廢止
標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
發(fā)布日期：1996-09-09
實(shí)施日期：1997-05-01
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)：31.200
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)：31.200
歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
執(zhí)行單位：全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
主管部門(mén)：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位：長(zhǎng)沙韶光微電子總公司
采標(biāo)情況：本標(biāo)準(zhǔn)等效采用其他國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)：SEMI P3:1990。
采標(biāo)中文名稱(chēng):。
相近標(biāo)準(zhǔn)：20141891-T-469 光致抗蝕劑靈敏度測(cè)量參數(shù)規(guī)范; 化學(xué)放大光致抗蝕劑的工藝參數(shù)描述規(guī)范; 20153725-T-469 化學(xué)放大光致抗蝕劑的工藝參數(shù)描述規(guī)范; NY/T 2209-2012 食品電子束輻照通用技術(shù)規(guī)范; GB/T 15871-1995 硬面光掩模基板; NY/T 1895-2010 豆類(lèi)、谷類(lèi)電子束輻照處理技術(shù)規(guī)范; WS/T 117-1999 X、γ、β射線和電子束所致晶體劑量估算規(guī)范; 20030888-T-517 自屏蔽電子束消毒滅菌裝置; GB/T 20130-2006 自屏蔽電子束消毒滅菌裝置; NY/T 2654-2014 軟罐頭電子束輻照加工工藝規(guī)范