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GB/T 34900-2017 微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）技術(shù) 基于光學(xué)干涉的MEMS微結(jié)構(gòu)殘余應(yīng)變測量方法現(xiàn)行

作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2021-07-14

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 34900-2017
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）技術(shù) 基于光學(xué)干涉的MEMS微結(jié)構(gòu)殘余應(yīng)變測量方法
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：2017-11-01
實(shí)施日期：2018-05-01
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號：L55
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號：31.200
歸口單位：全國微機(jī)電技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)

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