ANSI/TIA/EIA 526-4A-1997 光學直視天線輻射圖測繪方法
作者：百檢網 時間：2021-08-05
中文標準名稱：光學直視天線輻射圖測繪方法
英文標準名稱：Optical Eye Pattern Measurement Procedure
標準類型：M33
發布日期：1999/12/31 12:00:00
實施日期：1999/12/31 12:00:00
中國標準分類號：M33
國際標準分類號：33.180.01
適用范圍：This procedure describes a method of measuring the repetitive temporal characteristics of a two-level, intensity-modulated optical waveform (eye pattern) at an optical interface point. From the measured eye pattern, waveform parameters such as rise time, fall time, overshoot, and extinction ratio can be extracted. Alternatively, the waveform can be tested for compliance with a predetermined waveform mask.
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