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GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的測定-間隙氧含量減少法

作者：百檢網時間：2022-10-18

標準簡介

本標準規定了由測量硅片間隙氧含量的減少量來檢驗硅片氧沉淀特性的方法原理、取樣規則、熱處理程序、試驗步驟、數據計算等內容。本標準用于定性比較兩批或多批集成電路用硅片間隙氧沉淀特性。
英文名稱：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
標準狀態：現行
中標分類：冶金>>金屬理化性能試驗方法>>H26金屬無損檢驗方法
ICS分類：電氣工程>>絕緣流體>>29.040.01絕緣流體綜合
發布部門：國家質量監督檢驗檢疫.
發布日期：2004-02-05
實施日期：2004-07-01
出版日期：2004-07-01
頁數：16開，頁數：5，字數：9千遼

前言

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