GB/T 20176-2006 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度
作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2022-10-19
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介
本標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)說明了用標(biāo)定的均勻摻雜物質(zhì)確定單晶硅中硼的原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法。英文名稱：Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
中標(biāo)分類：儀器、儀表>>光學(xué)儀器>>N33電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器
ICS分類：化工技術(shù)>>分析化學(xué)>>71.040.40化學(xué)分析
發(fā)布部門：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員.
發(fā)布日期：2006-03-27
實(shí)施日期：2006-11-01
出版日期：2006-11-01
頁數(shù)：平裝16開 頁數(shù)：20, 字?jǐn)?shù)：32千字
前言
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