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GB/T 41325-2022 集成電路用低密度晶體原生凹坑硅單晶拋光片

作者：百檢網(wǎng) 時間：2022-10-23

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了低密度晶體原生凹坑硅單晶拋光片（以下簡稱Low-COP拋光片）的技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、包裝、標(biāo)志、運輸、貯存、隨行文件及訂貨單內(nèi)容。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于對晶體原生凹坑敏感的集成電路用直徑為200mm和300mm、晶向<100>、電阻率(0.1～100)Ω·cm的Low-COP拋光片。
英文名稱：Low density crystal originated pit polished monocrystalline silicon wafers for integrated circuit
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
中標(biāo)分類：冶金>>半金屬與半導(dǎo)體材料>>H82元素半導(dǎo)體材料
ICS分類：電氣工程>>29.045半導(dǎo)體材料
發(fā)布部門：國家市場監(jiān)督管理總局.
發(fā)布日期：2022-03-09
實施日期：2022-10-01
頁數(shù)：12頁

前言

元素半導(dǎo)體材料相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)

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