GB/T 30453-2013 硅材料原生缺陷圖譜
作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2022-10-24
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介
本標(biāo)準(zhǔn)給出了硅多晶、硅單晶、硅片和硅外延片等硅材料的各種原生缺陷及其密切相關(guān)誘生缺陷的術(shù)語(yǔ)及其形貌特征圖譜。分析了其產(chǎn)生的原因和消除方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅多晶、硅單晶、硅片和硅外延片等硅材料生產(chǎn)研究中各種缺陷的檢驗(yàn)。硅器件、集成電路的生產(chǎn)研究也可參考本標(biāo)準(zhǔn)。英文名稱：Metallographs collection for original defects of crystalline silicon
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
中標(biāo)分類：冶金>>半金屬與半導(dǎo)體材料>>H80半金屬與半導(dǎo)體材料綜合
ICS分類：電氣工程>>29.045半導(dǎo)體材料
發(fā)布部門：國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫.
發(fā)布日期：2013-12-31
實(shí)施日期：2014-10-01
出版日期：2014-10-01
頁(yè)數(shù)：88頁(yè)【彩圖】
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照 GB/T1.1—2009制定的規(guī)則起草。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)材料分會(huì)(SAC/TC203/SC2)提出并歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:有研半導(dǎo)體材料股份有限公司、東方電氣集團(tuán)峨眉半導(dǎo)體材料有限公司、南京國(guó)盛電子有限公司、杭州海納半導(dǎo)體有限公司、萬(wàn)向硅峰電子股份有限公司、四川新光硅業(yè)科技有限責(zé)任公司、陜西天宏硅材料有限責(zé)任公司、中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:孫燕、曹孜、翟富義、楊旭、譚衛(wèi)東、黃笑容、樓春蘭、王飛堯、石宇、劉云霞、陳赫、梁洪、羅莉萍、李詠梅、齊步坤、李慧、向磊。相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)
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