檢測原理
X射線光電子能譜（XPS），基于光電離作用，當一束光子輻射到樣品表面時，光子可以被樣品中某一元素的原子軌道上的電子所吸收，使該原子解脫原子核的束縛，以一定的動能從原子內部發射出來，變成自由的光電子，而原子本身則變成一個激發態的離子。當固定激發源能量時，其光電子的能量僅與元素的種類和所電離激發的原子軌道有關，由此根據光電子的結合能定性分析物質的元素種類。經X射線輻照后，從樣品表面射出的光電子的強度與樣品中該原子的濃度呈線性關系，可以進一步進行元素的半定量分析。另外，XPS的重要應用是對元素的化學價態進行分析。
儀器技術參數
離子源：100-4000eV
束斑直徑：1-10mm
濺射速率范圍：0.1-50nm/min
采樣深度：金屬0.5-2nm，無機物1-3nm，有機物3-10nm
送樣要求
固體粉末：均勻干燥，粒度小于70um（過200目），質量不少于100 mg；
塊體、金屬及薄膜樣，長寬小于10mm，高度小于5mm。
對含有揮發性、油污污染物的樣品許提前去除，**禁止分析帶有磁性的樣品。
應用
在化學、材料科學及表面科學中具有廣泛的應用價值。
1、 表面元素定性分析
2、 表面元素的半定量分析
3、 表面元素的化學價態分析
4、 元素沿深度方向的分布分析
常見譜圖
常見適用標準
ISO 152 0173 3840-2013 表面化學分析.深度剖析.原子發射光譜(AES)和光電子能譜(XPS)中深度剖析用電流或電流密度的離子束校正和相關測量方法
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