儀器 |
配置及技術參數 |
應用及特色項目 |
掃描電鏡SEM |
主要配置: EDS:布魯克30mm雙探測器(分辨率123eV); EBSD:定向背散射電子探測器; 高分辨紅外CCD; 氣體二次電子探測器; 超高真空系統;高真空/低真空/環 境真空系統,壓差光鑭。 拋光機;切割機;脆斷/冷鑲設備; 打磨機 技術參數: 支持環境模式; 分辨率:環境掃描電子顯微鏡:3-8nm 冷場掃描電子顯微鏡:0.8-1.2nm |
物質的形貌0/尺寸分析、膜層分析、EDS元素分析(定性、定量、線分布、面分布、
超級面分布)、活體細胞觀察、失效分析、金相分析等。廣泛用于材料、化學、
生物、醫學、地質等各類領域 |
透射電鏡TEM |
主要配置: 單球差校正器; EDS:INCA能譜儀 離子減薄,激光超薄切片機。 技術參數: 分辨率:亞?級 |
物質的形貌/尺寸觀察、電子衍射圖片,二維晶格面、明/暗場圖片、元素分析 (定性、定量、線分布、面分布、超級面分布)。廣泛用于材料、化學、生物、 醫學、地質等各類領域 |
原子力顯微鏡AFM |
分辨率:分辨率0.1nm 臺階0.3nm-500nm |
物質的表面形貌成像、鏡片/磁盤分析、表面粗糙度、紋理質量 |