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聚焦離子束系統

作者:百檢網 時間:2021-11-11 來源:互聯網

  • 詳細信息

    主要技術指標:

    分辨率5nm,30kV加速電壓,離子束流1-11000pA

    主要功能:

    FIB200目前主要用以0.18um 以上集成電路修補包括Pt互連,新型輔助氣體搭配離子束快速切割,低阻值探點的快速生成,電阻模擬,X-section 和TEM lamella 的制備等.

  • 服務信息

    服務內容:

    FIB(聚焦離子束)機臺的應用即是將混合鎵、液體及金屬的離子源照射于樣品表面,以取得影像或去除物質,此功能與SEM(掃描電子顯微鏡)相似。 但FIB的發送電壓由30kv升至50kv,使鎵離子以大于電子125倍的密度撞擊樣品表面,過程不需要加入鹵氣,而是以物理噴濺的方式讓有機氣體搭配電子或離子槍,有效剝除金屬或硅氧層。

    收費標準:

    1000/元

    用戶須知:

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