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GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度測量方法

作者：百檢網 時間：2022-10-24

標準簡介

本標準提供了硅片表面粗糙度測量常用的輪廓儀、干涉儀、散射儀三類方法的測量原理、測量設備和程序,并規定了硅片表面局部或整個區域的標準掃描位置圖形及粗糙度縮寫定義。本標準適用于平坦硅片表面的粗糙度測量;也可用于其他類型的平坦晶片材料,但不適用于晶片邊緣區域的粗糙度測量。本標準不適用于帶寬空間波長≤10nm 的測量儀器。
英文名稱：Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer
標準狀態：現行
中標分類：冶金>>半金屬與半導體材料>>H80半金屬與半導體材料綜合
ICS分類：電氣工程>>29.045半導體材料
發布部門：國家質量監督檢驗檢疫.
發布日期：2013-05-09
實施日期：2014-02-01
出版日期：2014-02-01
頁數：32頁

前言

本標準按照GB/T1.1—2009給出的規則起草。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會(SAC/TC203)提出并歸口。本標準起草單位:有研半導體材料股份有限公司、中國有色金屬工業標準計量質量研究所。本標準主要起草人:孫燕、李莉、盧立延、翟富義、向磊。

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